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電鍍技術(shù)

潤(rùn)錦介紹:影響鍍鋅層沉積速度的因素有哪些

新聞來(lái)源:本站發(fā)布日期:2020-04-23發(fā)布人:admin

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  可能影響鍍鋅層沉積速度的因素有以下幾種:

   (1)前處理不徹底。工件表面有氧化膜,影響鋅的正常沉積。

   (2)導(dǎo)電不良。電流在導(dǎo)線上消耗,分配到工件表面的電流過(guò)小。

   (3)工件含碳量高。高碳鋼、鑄鐵件等會(huì)降低氫的析出電位,工件表面析氫加速,電流效率降低。

   (4)工件綁扎過(guò)密。鍍鋅時(shí)工件局部遭到屏蔽而導(dǎo)致鍍層過(guò)薄。

   (5)鍍液溫度偏低。當(dāng)鍍液溫度偏低時(shí)配送的電流密度相應(yīng)降低,鍍層的沉積速度也必然降低。

   (6)鍍液中氫氧化鈉含量偏高。氫氧化鈉含量偏高時(shí)電流效率相應(yīng)降低。

   (7)鍍液中添加劑含量偏低。添加劑含量偏低會(huì)影響分散能力,鍍層局部顯得過(guò)薄。

   (8)受鍍件面積估算不足,施鍍時(shí)配送的電流密度顯得過(guò)小。

   (9)工件懸掛方法不當(dāng),與鋅陽(yáng)極間距過(guò)大,應(yīng)調(diào)整位置。

   (10)工件過(guò)腐蝕。降低氫的析出電位,工件表面析氫加速電流效率降低,從而影響鋅的沉積速度。應(yīng)在酸洗溶液中加入適量的緩蝕劑,局部處氧化皮過(guò)厚先用機(jī)械法除去,酸洗過(guò)程中多作檢查。

   (11)陽(yáng)極鈍化。有效面積減少,影響電流的正常分布。

   (12)氫氧化鈉含量偏低。若氫氧化鈉含量偏低時(shí),電流密度提不高,陽(yáng)極鈍化。


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